铌靶材

铌靶材的核心特点
1、材料特性‌：超高纯度、高熔点与耐高温性‌、低热膨胀系数‌；
2、功能性能‌
溅射性能‌：体心立方晶体结构确保溅射速率均匀，薄膜致密性高，附着力强‌；
化学稳定性‌：常温下耐盐酸、硝酸等强酸腐蚀，表面氧化膜可进一步提升保护性‌；
典型应用领域
半导体制造‌：用于溅射高纯度铌薄膜，提升芯片电容密度和信号传输效率‌；
光学镀膜‌：作为抗反射层材料，降低激光雷达光损耗至1.5%以下‌；
新能源领域‌：用于光伏电池电极或锂电池集流体，增强耐腐蚀性和导电性‌。